真空中の熱電対を直線移動させ、試料に接触/隔離ができます。

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炉長の約７割が均温になる特性を持つ管状炉です。 昇温・降温速度も早く、省電力のシステムです。

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卓上サイズの赤外線真空炉です。 真空やガス雰囲気中でラピッド・サーマル・アニールができます。 研究用熱処理に最適です。

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真空中試料のピンポイント加熱ができる熱処理装置です。 真空システムや分析装置に、簡単に取り付けできます。 世界でもサーモ理工にしかないオリジナル製品です。 ・超高真空から加圧、超高速昇温型まで、 …

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大気中に設置した試料に、石英ロッド先端より、赤外線ビームを照射し、スポット加熱ができます。 赤外線ビームの照射方向は360°自由にできます。

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大気中試料を非接触で加熱します。 低価格製品です。

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試料を1800℃まで30secで急速昇温できます。 グラフェン、SiC熱分解生成、SiC活性化熱処理、超高温材料の熱処理に最適です。 ガスフロー型新登場！

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赤外線導入加熱装置の急速昇温技術を応用したシステムです。 円板状試験片に両面から赤外線を照射し熱衝撃を与え破壊試験を行います。 セラミックス等の熱衝撃試験等に使用されます。

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